「次世代英才企業人」育てる、中高生180人選抜
2009年10月20日(火)17時3分配信 WoW!Korea
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【大田20日聯合ニュース】特許庁は20日、未来の新成長産業創出をリードする「次世代IP(知識財産権)―基盤英才企業人」180人を初選抜すると明らかにした。次世代英才企業人とは、マイクロソフトのビル・ゲイツ氏や、グーグル共同創業者のセルゲイ・ブリン氏とラリー・ペイジの両氏らのように、知識財産に基盤を置く創意的な企業家に成長する潜在力が大きい学生を指す。
特許庁は今年、中学校1年〜高校1年の生徒のうち創意的な潜在力に秀でた少数精鋭の人材180人(中学生90人、高校生90人)を初選抜し、科学技術研究の中心である国立大学KAISTと、浦項工科大学(POSTECH)に設置する教育院で、来年から体系的な教育を行う予定だ。選抜にあたっては、次世代英才企業人としての潜在性とチャレンジ精神、リーダーシップ、創意性、基本学習能力などを総合評価する。最終合格者は12月末に発表される。
japanese@yna.co.kr