村田製作所、横浜市「みなとみらい21地区」に新たな研究開発拠点

村田製作所、横浜市「みなとみらい21地区」に新たな研究開発拠点

画像提供:マイナビニュース

村田製作所は6月26日、横浜市みなとみらい21地区に新たに研究開発拠点を設立することを発表した。敷地面積は7,415平方メートルを予定。今後の新しい事業への取り組みを一層精進するため今回の設立に至ったという。

同社は、顧客価値の向上と持続的な成長を実現するべく、通信市場を中心とした既存事業に加え、自動車、エネルギー、ヘルスケア、メディカルといった注力市場向けやIoT向けに新たな価値創出を進めている。

今回の新たな研究開発拠点の設立に伴い、これらの新しい事業への取り組みを一層精進すると同時に、研究開発環境を充実させ外部との連携も積極的に行い、グローバルの顧客への新たな価値提供を促進していく考えだ。

村田製作所はセラミックスをベースとした電子部品の開発・生産・販売を行っている世界的な総合電子部品メーカー。独自に開発、蓄積している材料開発、プロセス開発、商品設計、生産技術、それらをサポートするソフトウェアや分析・評価などの技術基盤で独創的な製品を創出している。
(田中省伍)

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