SCREENセミコン、不純物活性化に適した熱処理装置を発売

SCREENセミコン、不純物活性化に適した熱処理装置を発売

画像提供:マイナビニュース

SCREENセミコンダクターソリューションズは、シリコンウエハーに注入された不純物の活性化に対応する、半導体製造工程における、フラッシュランプアニール装置「LAシリーズ」の最新機種「LA-3100」の販売を開始した。

同シリーズは、シリコンウエハーに注入された不純物(ボロン、ヒ素、リンなど)の活性化や、シリコンの結晶化によるソース・ドレインの活性化プロセスなど、特に65ナノメートル世代以降のデバイスから長年にわたり用いられてきたものだ。

近年の半導体の微細化に伴い、ソース・ドレイン形成プロセスに対する要求は、単なる高度な不純物活性化だけでなく、注入される不純物の活性化時の拡散制御や欠陥回復へと移り変わってきている。

今回、同社が開発した「LA-3100」は、ミリ秒単位で加熱温度のプロファイルを制御する技術を活用し、瞬時に1,000から1,200℃までシリコンウエハーの表面を熱処理することに加え、アニール処理のアプリケーション域を大きく拡張する新機能を搭載する。

また、従来の搬送系の設計を大幅に見直すことによって、より高いレベルでの酸素濃度管理を実現し、特に酸化を嫌うチタン系膜のアニール処理にも適応できるという。
(田中省伍)

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